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詳細摘要： 瀏覽同類商品上一頁：卷對卷石墨烯連續生長設備產品名稱：迷你智能型等離子體可回轉化學氣相沉積系統（型號：BTF-1200C-R-S-PECVD）產品詳細介紹主要特...

詳細摘要： 主要特點Mainfeature?Underthevacuumcondition

詳細摘要： PECVD系統（PlasmaEnhancedChemicalvaporDeposition）微型PECVD系統，它包括小型真空管式爐，石英真空室、真空抽氣與真空...

詳細摘要： 主要特點微型滑軌式PECVD系統，電源范圍寬：0-100W可調；溫度范圍寬：100-1200度可調；濺射區域寬：整管可調；其精致小巧，性價比，滑軌式設計使用滑軌...

詳細摘要： 雙層風扇散熱裝置主要特點貝意克公司研制的PECVD系統能使整個實驗腔體都處于輝光產生區，輝光均勻等效，這種技術很好的解決了傳統等離子工作不穩定狀態，這樣離子化的...

詳細摘要： 主要特點滑軌式PECVD系統能使整個實驗腔體都處于輝光產生區，輝光均勻等效，這種技術很好的解決了傳統等離子工作不穩定狀態，這樣離子化的范圍和強度是傳統PECVD...

詳細摘要： 要特點智能PECVD設備是目前型的一款設備，將所有的控制部分集為一體，此款設備是我司在2013年獲得的設備

詳細摘要： 主要特點400℃開啟式真空預熱管式爐不僅是可以提高熱交換性能，降低熱量損耗的一種預熱設備，也可以作為1000℃小型加熱爐進行抽真空，通氣氛實驗；加熱區長度100...

詳細摘要： 主要特點我公司研制的滑軌式PECVD系統能使整個實驗腔體都處于輝光產生區，輝光均勻等效，這種技術很好的解決了傳統等離子工作不穩定狀態，這樣離子化的范圍和強度是傳...

詳細摘要： 主要特點這是一款針對太陽能硒化設計的專用爐，爐體上端腔體可以實現離子增強硒化功能，利用上下腔體內的壓差實現硒化氣體均勻擴散乘積在基體表面

詳細摘要： 主要特點BTF-1200C-IIIS-PECVD高溫真空爐加熱腔體采用氧化鋁纖維制品，其極低的熱導率和比熱容，保證了爐膛的快速升溫和低蓄熱，特別適合于科研單位的...

詳細摘要： 主要特點一、此設備的高溫真空電阻爐溫度控制系統采用經典的閉環負反饋控制系統，控溫儀表選用智能型程序溫度調節儀表控溫，電力調制器控制；負載采用小電壓大電流控制，從...

詳細摘要： StockrollAnnealingzoneGrowthzone主要特點基于廣大科研界對實現大面積單層石墨烯薄膜在工業銅箔基底上卷對卷宏量制備的需求,我公司開發...

詳細摘要： 該PECVD（等離子化學氣相沉積系統）系統，有多路質量流量計系統（進口流量計），真空機組（進口真空泵），PE射頻電源（進口射頻源），溫控系統等裝置構成

詳細摘要： 實驗機理PECVD是借助于輝光放電等方法產生等離子體，輝光放電等離子體中：1,電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，...

詳細摘要： 主要特點：本款設備可以做金屬復合石墨烯材料，是目前Z的金屬復合材料制備設備

詳細摘要： 主要特點該款設備是全自動Plasma增強CVD系統（PECVD）

詳細摘要： 主要特點：此款智能型等離子體增強化學沉積系統的高溫真空爐加熱腔體采用進口氧化鋁纖維制品，其極低的熱導率和比熱容，保證了爐膛的快速升溫和低蓄熱，特別適合于制備大面...

詳細摘要： 主要特點：一、此設備的高溫真空電阻爐溫度控制系統采用經典的閉環負反饋控制系統，控溫儀表選用智能型程序溫度調節儀表控溫，電力調制器控制；負載采用小電壓大電流控制，...